Китай создал прототип EUV-оборудования для выпуска передовых чипов — СМИ
Инженерам Китая «в засекреченной лаборатории города Шеньчжэнь» удалось создать прототип EUV-литографа для выпуска передовых ИИ-чипов, пишет в четверг агентство Reuters со ссылкой на собственные источники.
EUV (extreme ultraviolet) на сегодня самая эффективная технология изготовления передовых микросхем. Фактический монополист на рынке литографических EUV-машины – компания ASML (Нидерданды). Такие машины эксплуатируются тайваньской TSMС, где китайцы из-за санкций США не могут размещать заказы. Экспорт продукции ASML в КНР перекрыт по той же причине. Если сообщение о создании китайского EUV-литографа верно, это важнейшее событие в мировой полупроводниковой индустрии.
Агентство называет событие кульминацией правительственной программы КНР по достижению технологической независимости в полупроводниковой сфере. О планах по выпуску чипов объявлялось публично, но создание прототипа EUV-оборудования держалось в тайне, утверждают источники Reuters.
Стоимость оборудования ASML достигает 250 миллионов долларов за литограф. Кроме TSMC его закупают Nvidia, AMD, Intel и Samsung. От создания прототипа до вывода готовой аппаратуры для выпуска чипов на рынок у ASML ушло около 18 лет и потребовало миллиардов евро инвестиций в НИОКР. Оправданность этих затрат времени и денег демонстрирует пример Intel – прежний мировой лидер в производстве процессоров оказался в упадке из-за принятого в прошлом ошибочного решения отказаться от развития технологии EUV.
Как утверждается в сообщении, китайский прототип EUV-литографа был построен в начале 2025 года. Он занимает целый этаж здания. В разработке принимали участие экс-сотрудники ASML (КНР способствует возвращению своих специалистов из других государств – ред.). Утверждается, что оборудование создано по образцам нидерландской компании.
Как сообщается, китайский EUV-литограф на данном этапе способен генерировать луч жесткого ультрафиолета с нужными параметрами (не более 14 нм), но производственный процесс до конца не отлажен. Инженерам ещё предстоит найти замену точным оптическим системам западного производства, которые способны с нужной точностью проецировать излучение в кремниевую пластину, превращая её в микросхему. В КНР планируют получить первые чипы на новом литографе в 2028 году.
1 доллар = 80,38 рубля
См. также: Институт физики микроструктур РАН отчитался о ходе работ по EUV-литографу >>>
