Samsung получила от ASML первый сканер для производства чипов с нормами менее 2 нм
Передовиком освоения использования литографического оборудования с высокой числовой апертурой (High-NA) принято считать компанию Intel, которая уже активно экспериментирует как минимум с двумя такими машинами, стоимость которых измеряется сотнями миллионов долларов. TSMC стояла второй в очереди на получение такого оборудования от ASML, но внедрять его ранее 2028 года в массовом производстве чипов не собиралась. Теперь корейские СМИ сообщают, что в начале этого месяца Samsung получила от ASML первый литографический сканер TwinScan EXE:5000, позволяющий работать с High-NA EUV.
Опыт, полученный при использовании данного оборудования, пригодится Samsung при массовом производстве чипов по технологиям тоньше 2 нм. По состоянию на четвёртый квартал прошлого года Samsung довольствовалась 8,1% мирового рынка услуг по контрактному производству чипов. Чтобы не растерять позиции под натиском конкурентов ещё сильнее, корейской компании важно своевременно начинать освоение новых литографических норм.