Samsung обзаведётся сканером High-NA EUV к началу следующего года
Intel считается крупнейшим получателем литографических систем ASML с высоким значением числовой апертуры (High-NA EUV), но Tom’s Hardware со ссылкой на южнокорейские СМИ сообщает, что к концу текущего года или началу следующего соответствующее оборудование получит и компания Samsung Electronics. Выпускать чипы с его использованием компания собирается примерно с середины 2025 года, но это будут буквально штучные прототипы, поскольку в массовом производстве такие сканеры будут внедрены лишь к 2027 году.
Samsung также озаботилась приобретением оборудования для инспекции фотомасок японской компании Lasertec, которое уже оптимизировано для EUV-литографии с высоким значением числовой апертуры. Компания TSMC, тем временем, также планирует получить свой первый литографический сканер класса High-NA EUV к концу этого года, но в массовом производстве подобное оборудование начнёт применять не ранее 2028 года, когда освоить выпуск чипов по технологии A14.