Собянин сообщил о создании в Москве уникального оборудования для микросхем

Собянин сообщил о создании в Москве уникального оборудования для микросхем

Компания — резидент особой экономической зоны (ОЭЗ) «Технополис Москва» создала первый в России фотолитограф с разрешением 350 нанометров. Об этом Сергей Собянин рассказал в своем телеграм-канале.

«В мире меньше 10 стран, способных создавать это ключевое оборудование для производства микросхем. Теперь в их числе — Россия. Сделали важнейший шаг к переходу на собственное производство микроэлектроники и полной технологической независимости государства. Российский фотолитограф создан при партнерстве с белорусским заводом, имеющим огромный опыт в этой сфере», — написал Мэр Москвы.

Источник: телеграм-канал Сергея Собянина @mos_sobyanin 

Отечественная установка существенно отличается от зарубежных аналогов. Впервые в качестве излучения использована не ртутная лампа, а твердотельный лазер — мощный и энергоэффективный, с высокой долговечностью и более узким спектром.

На отечественный фотолитограф уже есть заказчик. Технологические процессы адаптируют к особенностям производства конечного потребителя.

В настоящее время ведется разработка фотолитографа с разрешением 130 нанометров. Завершить его планируется в 2026 году.

 

Официальный портал Мэра и Правительства Москвы Официальный портал Мэра и Правительства Москвы

15:05
Нет комментариев. Ваш будет первым!
Использование нашего сайта означает ваше согласие на прием и передачу файлов cookies.

© 2025